专利申请

成果专利

专利申请

专利申请指南

申请发明或实用新型专利应提供技术交底资料，对技术方案的描述应“清楚、完整”，以所属技术领域的技术人员能够实现为准。

技术交底资料一般应包括以下内容：

1、名称和所属技术领域。

2、背景技术：描述已有技术与本发明最相近似的实现方案，指出不足之处和缺点。

3、发明内容：

（1）发明目的

（2）技术方案：它是专利申请的核心，是发明人对其要解决的技术问题所采取的技术措施的集合。必须完整地描述技术方案的技术特征，即提出关键创新点。

（3）有益效果即是本发明或本实用新型的优点。

4、附图说明：实用新型必须有附图，涉及装置或有形产品的，应有结构示意图，对附图作简略说明，根据专利申请内容，附图包括：机械结构图、电路图、流程图、框图等。

5、具体实施方式：详细描写实现技术方案的优先方式，有附图的结合附图详细描述。如是装置的专利申请，则需描述具体结构特征，各组成部件的位置及连接关系；

电路产品：说明组成电路的基本单元及其工作原理，各单元电路的用途，各单元电路的连接关系（或输入输出关系），电信号的传递过程，通常应结合所提供的原理方框图或电路图进行描述。

含有程序的方法发明：该类申请包括解决特定技术问题的应用程序和计算方法硬件系统，应结合相关硬件，按相应的应用程序流程图来描述该程序所执行的各个功能，即实现各个功能的步骤等，可以设计相关的工艺参数、数学模型和操作条件。

外观设计

应提交不得小于3厘米×8厘米，并不得大于15厘米×22厘米的图片或照片一式4份，图片或照片：需提供主视图、后视图、左视图、右视图、俯视图、仰视图以及使用状态图（立体图）。各图比例应一致。请求保护色彩的需提供彩色图片或照片。